郝強在看到自家孩子的屬性時,不禁感到一絲擔憂。


    表現得過於優秀,人生缺乏挫折,並不一定是件好事。


    他更希望兩個孩子能夠像普通人一樣正常成長,等到懂事後再展現出他們的天賦,這樣或許更為理想,而不是讓他們從小就顯得異常出眾,容易因為缺乏引導而叛逆。


    經過深思熟慮,郝強決定優先提升孩子的體質。


    他明白,隻有身體健康,才有未來。


    至於其他屬性,暫時維持現狀也足夠了。


    在接下來的十年裏,郝強預計還能獲得30點自由屬性點,而孩子將獲得15點自由屬性點,這樣就能將思維力提升到25。


    至於達到26點,四維屬性最低要求20,難度確實不小。


    或許,在有生之年還有可能實現。


    在給孩子合理分配好這些屬性點後,郝強對他們的未來充滿了希望。


    【第一代:郝雨萱】


    【記憶力:19(潛力)】


    【思維力:21(潛力)】


    【顏值:22(潛力)】


    【體質:14(潛力)】


    【自由屬性點:1】


    ……


    【第一代:郝子墨】


    【記憶力:18(潛力)】


    【思維力:22(潛力)】


    【顏值:19(潛力)】


    【體質:18(潛力)】


    【自由屬性點:0】


    ……


    兩個孩子的記憶力屬性均達到了18及以上,已然屬於天才水平;


    而他們的思維力更是達到了21及以上,堪稱超級天才。


    如果能夠達到24及以上,那就真的是人類的妖孽級別了。


    憑借他們的能力和正常的努力,考上青北大學絕對不是問題。


    當然,如果選擇躺平,連重點大學都可能無法入圍。


    此時,秋雨晴已經給兩個孩子喂過奶,時間也快到中午十二點鍾,準備吃午餐。


    郝強離開醫院,他的母親和嶽母在吃過午餐後,便來到醫院看護孩子和秋雨晴。


    兩位老人對新生兒的嗬護無微不至,臉上蕩漾著喜悅,說女兒像媽媽,兒子像爸爸。


    其實,孩子剛生下來,根本看不出什麽。


    倒是那眼神,還真有些像。


    下午,


    郝強將五百萬元轉入醫院賬戶,以此獎勵所有工作人員。


    負責生產的護士和醫生每人將獲得16.8萬元的獎勵。


    他提出了一個要求:禁止向外界宣傳他有孩子的事情。


    在未來十年內,他不打算向外界公開自己有孩子的消息,旨在保護孩子的健康成長和隱私。


    不過,他也知道完全隱瞞是不可能的,一些熟人和家鄉的人總會知道,隻要不在媒體上公開就好。


    三天後,


    郝強的兩個孩子終於睜開了眼睛。


    這三天裏,他們補充了充足的營養,肌膚開始煥發光澤,不再像剛出生時那樣皺巴巴的。


    唯一讓人有些煩躁的是,孩子們時不時就會哭鬧。


    尤其是哭聲一旦變大,秋雨晴便顯得愁眉不展,滿臉擔憂,怕哭傷了嗓子。


    郝強也沒帶過孩子,換尿布都不會,雖然這些工作輪不到他去做。


    哄孩子時,還輕哼著“兩隻老虎跑得快”。


    郝強的顏值已經達到22,加持了20%超級歌唱的實力,就算是唱兒歌,也唱得很好聽。


    在哄小孩這一塊,還真比秋雨晴有效率。


    秋雨晴還打趣說:“哼,這兩個小家夥,有了爸,忘了媽。”


    第四天,秋雨晴和孩子都出院,回到香蜜湖別墅居住。


    接近二十人的保育團隊,負責秋雨晴和兩個孩子的健康和飲食,根本不用家人愁這些。


    一棟別墅裏擠二三十人,郝強覺得別墅小了些,還好有大平層可以安排。


    郝府已經開工四個月時間,要投入使用,那得等到2013年去了。


    秋雨晴順產,郝強獎勵保育團隊每個人66.6666萬元,保姆和保鏢每個人16.8萬元,可把他們樂瘋了。


    大家的薪酬本來就很高,是同行的兩倍以上,工作強度也不高,想不到獎勵這麽豐厚。


    對郝強來說,這都是小錢,同慶喜事,整棟別墅裏溢滿喜悅。


    這段時間,郝強心思全在秋雨晴產事上麵,無暇公司事務。


    在家裏照顧孩子,孩子不是哭就是拉,就算有團隊服務,其實還是有點煩的,幹脆把心思轉到公司事務上。


    青龍8124車載芯片,架構設計階段已經完成,目前開始電路設計。


    電路設計可能需要3-6個月時間,周期比較長。


    結束電路設計後,隨後進行芯片的物理設計,包括布局和布線。


    順利的話,明年年中可以試產;


    若不順,那可能卡到後年去了。


    單晶爐在研製當中,也許明年年初就能研製成功。


    ebl光刻機的進度較慢,零部件就高達幾萬件。


    當然,不少是標準件和重複件,但也讓郝強畫圖畫了整整兩個月時間,6月份才結束。


    通常來說,極紫外euv光刻機,包括光源、光學係統、掩模、晶圓台、對準係統、控製係統和冷卻係統等主要零部件。


    最核心與難製造的零部件,莫過於光學係統了。


    ebl光刻機是電子束係統,與傳統的光刻技術(如紫外光光刻)不同,電子束光刻機利用電子束直接在光刻膠上進行曝光,因此具有更高的分辨率和靈活性。


    euv的波長為13.5納米,對準係統要求非常苛刻。


    而電子束光刻是基於直接寫入的方式,用戶可以快速修改圖案設計,而無需更換掩模。


    它的缺點之一是曝光速度相對較慢,通常不適合大規模生產。


    如今,郝強的技術商店解決了量產問題。


    ebl光刻機與euv光刻機,工作原理不一樣,許多設備也不一樣。


    主要包括電子槍、聚焦透鏡係統、掃描係統、真空室、晶圓台、光刻膠塗布係統、顯影係統、對準係統、控製係統和冷卻係統,最核心的是電子槍和聚焦透鏡係統。


    所以說,老外就算卡零部件,也不知道卡什麽。


    除了ebl光刻機,刻蝕設備、光刻膠和刻蝕膠(前者相當於畫圖,後者相當於塗一層蠟,保護圖案)、化學氣相沉積設備等項目進展也比較慢。


    慢倒無所謂,徐徐圖之,研發進展無卡阻就行。

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